RTP FIRINLARI

Hızlı Isıl İşlem (Rapid Thermal Processing, RTP) silikon waferları birkaç saniye ya da daha kısa sürede yüksek (1200°C ya da daha yüksek) sıcaklıklara kadar ısıtan bir yarı-iletken üretim işlemidir. Soğutma sırasında, termal şoktan dolayı yerinden oynamayı (dislocation) ve kırılmayı engellemek için wafer sıcaklığının yavaşça düşürülmesi gerekir. Bu tür ani ısıtma işlemleri genellikle yüksek yoğunluk sağlayabilen lambalar ya da lazerler ile gerçekleştirilir. Hızlı ısıl işlem sistemleri yarı-iletken üretiminde birçok uygulamada kullanılır: katkı maddesi (dopant) aktivasyonu, termal oksidasyon, kimyasal buhar biriktrime, metal reflow ve daha fazlası.

Rotalab'ın sağladığı RTP fırınlar ve diğer laboratuvar fırınları silikon, bileşik yarı-iletken, fotovoltaik, mikro-elektromekanik sistemler (MEMS) ve diğer malzemeleri içeren birçok uygulamada kullanılabilir. Tipik işlemler şunları içermektedir: ısı ile birleştirme (implantation annealing, contact annealing), hızlı termal nitridasyon, kristalizasyon, yoğunlaştırma ve sıkılaştırma.

Grafen ve selenizasyon işlemlerinin kimyasal buhar biriktirmesi (Chemical vapor deposition, CVD) için konfigürasyonlar mevcuttur.

  • OTF-1200X-50-SL-UL

  • OTF-1200X-4-RTP-UL

  • OTF-1200X-S-DVD

  • GSL-1500X-RTP50

  • OTF-1200X-4-RTP-SL

  • OTF-1200X-80SL

  • OTF-1200X-S2-50SL

  • OTF-1200X-4-C4-SL-UL

  • GSL-1500X-OTF-50SL

  • OTF-1200X-RTP-II

  • OTF-1200X-RTP-II-5