NEGATİF FOTOREZİSTLER

Fotorezist, fotolitografi ve fotogravür gibi çeşitli işlemlerde, tüm elektronik endüstrisi için çok önemli olan, bir yüzey üzerinde desenli bir kaplama oluşturmak için kullanılan ışığa duyarlı bir malzemedir. Rezistler, ekspozüre vereceği tepkiye bağlı olarak, pozitif veya negatif olarak sınıflandırılırlar.

UV ışığına maruz kaldığında, negatif rezist çapraz bağlanarak (polimerize olarak) developer içinde çözünmesi daha zor hale gelir. Bu nedenle, negatif rezist, maruz kaldığı substratın yüzeyinde kalır ve developer çözeltisi sadece ışığa maruz kalmayan alanları söker. Bu nedenle, negatif fotorezistler için kullanılan maskeler, transfer edilecek olan desenin tersini veya fotografik negatifini içerir.

UV Litografi

Geniş bant (broadband) ve i-line ekspozür için etkili negatif ton fotorezistler. Bir spin-kaplama adımında farklı film kalınlıkları elde etmek için çeşitli viskoziteler mevcuttur. SU-8 serisi, kimyasal olarak güçlendirilmiş, epoksi bazlı negatif rezistler sunar. Uygulamalar, kalıplama modelini, ve polimerik tek modlu (single-mode, SM) ve çok modlu (multi-mode, MM) dalga kılavuzlarının imalatını kapsar.

  • SU-8

    MICROCHEM
    Negatif Fotorezist
    Negatif Ton Fotorezist
  • SU-8 2000

    MICROCHEM
    Negatif Fotorezist
    Negatif Ton Fotorezist
  • SU-8 3000

    MICROCHEM
    Negatif Fotorezist
    Negatif Ton Fotorezist
  • KMPR 1000

    MICROCHEM
    Negatif Fotorezist
    Negatif Ton Fotorezist
  • ma-N 400 & ma-N 1400

    MICRO RESIST TECHNOLOGY
    Negatif Fotorezist
    Negatif Ton Fotorezist
  • EpoCore & EpoClad

    MICRO RESIST TECHNOLOGY
    Negatif Fotorezist
    Negatif Ton Fotorezist
Elektron Demeti / Derin UV Litografisi

Elektron demeti (e-beam) veya derin UV (deep UV) ekspozür için etkili negatif ton fotorezistler. Bir spin-kaplama adımında farklı film kalınlıkları elde etmek için çeşitli viskoziteler mevcuttur. Uygulamalar elektrokaplamayı (electroplating), master/template üretimini ve aşındırma maskesini (etch mask) kapsar.

  • ma-N 2400 & mr-EBL 6000

    MICRO RESIST TECHNOLOGY
    Negatif Fotorezist
    Negatif Ton Fotorezist
  • UVN 2300

    DOW ELECTRONIC MATERIALS
    Negatif Fotorezist
    Negatif Ton Fotorezist
405 nm'de Direkt Lazer Yazım

405 nm'de direkt lazer yazım için etkili negatif ton fotorezistler. Bir spin-kaplama adımında farklı film kalınlıkları elde etmek için çeşitli viskoziteler mevcuttur. Uygulamalar elektrokaplamayı (electroplating), master/template üretimini ve aşındırma maskesini (etch mask) kapsar.

  • mr-DWL

    MICRO RESIST TECHNOLOGY
    Negatif Fotorezist
    Negatif Ton Fotorezist
Yardımcı Kimyasallar

Negatif fotorezistler için incelticiler, primerler, yıkayıcılar (developer) ve sökücüler gibi çeşitli işlem kimyasalları.

  • Negatif Rezistler için
    Yardımcı Kimyasallar

    MICRO RESIST TECHNOLOGY
    İnceltici, Primer, Developer ve Sökücü
    Negatif Ton Fotorezist Yardımcı Kimyasalları