POZİTİF FOTOREZİSTLER

Fotorezist, fotolitografi ve fotogravür gibi çeşitli işlemlerde, tüm elektronik endüstrisi için çok önemli olan, bir yüzey üzerinde desenli bir kaplama oluşturmak için kullanılan ışığa duyarlı bir malzemedir. Rezistler, ekspozüre vereceği tepkiye bağlı olarak, pozitif veya negatif olarak sınıflandırılırlar.

UV ışığına maruz kaldığında, pozitif rezist developer içerisinde daha çözünür hale gelir. Açıkta kalan rezist daha sonra, temel malzemenin pencerelerini bırakarak developer çözeltisi tarafından yıkanır. Bu nedenle, maske, wafer üzerinde sonraki işlem için bir şablon olması amacıyla kalacak olan desenin tam bir kopyasını içerir.

UV Litografi

Mikroelektronik ve mikrosistemler teknolojisinde kullanılmak üzere tasarlanmış pozitif ton fotorezistler. Uygulamalar aşındırmayı (etching), elektrokaplamayı (electroplating) ve iyon katkılamayı (ion implantation) kapsar.

ma-P 1200
ma-P 1275 & ma-P 1275HV

Gri-Skala Litografi (Greyscale Lithography)

Gri-ton litografi (greyscale lithography) için tasarlanmış pozitif ton fotorezistler. Uygulamalar UV kalıplamayı (moulding) veya aşındırmayı (etching), ve elektrokaplamayı (electroplating) kapsar.

ma-P 1275G

Elektron Demeti / Derin UV Litografisi

Elektron demeti (e-beam) ve derin UV (deep UV) litografi için tasarlanmış pozitif ton fotorezistler. Uygulamalar aşındırma maskelemeyi (etch masking) kapsar.