NANOİMPRİNT REZİSTLER

RotaLab, nanoimprint litografi (NIL) veya nanobaskı litografi (NBL) için rezist formülasyonları sağlamaktadır. Ürünlerimizin benzersiz temel özellikleri, mükemmel desen doğruluğu ve plazma aşınma stabilitesinin yanında mükemmel film oluşturma ve baskı performansıdır. Nanobaskı rezistlerimiz çoğunlukla Si, SiO2, Al veya safir gibi çeşitli yüzeylere desen transferi için aşındırma maskesi olarak uygulanır.

Temel olarak, şu ana kadar iki farklı NIL çeşidi geliştirilmiştir: termoplastik bir polimerin kullanıldığı termal NIL ("termoplastik NIL" olarak da bilinir, T-NIL) ve içerisine sıvı bir foto-kürlenebilir (photo-curable) formülasyon uygulanmış olan foto NIL ("photocurable NIL" olarak da bilinir, P-NIL).