PÜSKÜRTME HEDEFLERİ

Püskürtme hedefi, püskürtme biriktirme veya ince film biriktirme olarak bilinen bir teknikte ince filmler oluşturmak için kullanılan bir malzemedir. Bu işlem sırasında, bir katı olarak başlayan püskürtme hedefi materyali, sübstrat (ör. silikon wafer) olarak bilinen başka bir malzemeyi bir sprey oluşturarak kaplayan küçük parçacıklar halinde gaz halindeki iyonlar tarafından parçalanır. Püskürtme biriktirme genellikle yarı iletkenlerin ve bilgisayar çiplerinin yapılmasında rol oynar. Birçok püskürtme malzemesi metalik element veya alaşımdır, fakat çeşitli aletler için sertleştirilmiş ince kaplamalar oluşturan bazı seramik hedefler de mevcuttur.

Oluşturulan ince filmin doğasına bağlı olarak, püskürtme hedefleri ebat ve şekil açısından çok büyük farklılıklar gösterebilirler. En küçük hedeflerin çapı bir inçten (2.5 cm) daha küçük olabilirken, en büyük dikdörtgen hedefler 0.9 m uzunluğa ulaşabilir. Bazı püskürtme ekipmanları daha büyük bir püskürtme hedefine ihtiyaç duyarlar ve bu durumlarda, özel bağlantılarla bağlanan bölümlere ayrılmış hedefler kullanılır.

RotaLab, ticari seviye (%99.9 saflık) ve rafine Ultra-Saf seviye (%99.999 saflık) arasında farklı saflıklarda, çeşitli boyutlara sahip ve malzemelerden imal edilmiş olan birçok püskürtme hedefi sağlamaktadır.